Intel niega retrasos en el proceso de 10 nm: cumplirán los plazos previstos

Hace apenas un par de días tuvimos la oportunidad de descubrir los planes de Intel para los próximos diez años. La hoja de ruta que repasamos en este artículo confirmaba que el gigante de Santa Clara sigue haciendo avances importantes con el proceso de 10 nm, y que espera poder dar el salto al proceso de 7 nm en 2021, una información que, sin embargo, contrasta con la que han vertido recientemente otros medios bastante conocidos.

Es un hecho que Intel ha tenido problemas con los 10 nm. La compañía lo ha reconocido abiertamente y ha explicado los puntos más importantes que han justificado los numerosos retrasos que ha tenido que afrontar, pero no está dispuesta a aceptar rumores y especulaciones que pongan en duda sus recientes progresos. Por eso no ha dudado en salir a desmentir una información que apuntaba a un nuevo retraso en el lanzamiento de los procesadores Ice Lake para centros de datos.

Según la fuente de la noticia, la siempre fiable Tom´s Hardware, Intel les ha enviado un comunicado oficial que explica, de forma resumida, la situación actual de sus procesadores Ice Lake para el sector profesional. Os lo reproducimos de forma literal:

«Intel sigue trabajando para completar la plataforma Whitley, empezará la producción de la serie de procesadores Cooper Lake en el primer semestre de 2020, seguida de la producción de Ice Lake en el segundo trimestre de 2020. También están acelerando sus planes para complementar la entrega de Whitley con la de Rapids Sapphire en 2021″.

Este comunicado confirma, en resumen, que los primeros procesadores de Intel para el sector profesional fabricados en proceso de 10 nm llegarán, como estaba previsto inicialmente, a finales de 2020. Puede que también veamos a finales de dicho año el debut de la serie Ice Lake-S, destinada al mercado de procesadores de alto rendimiento para consumo general, pero esto todavía no está del todo claro.

Os recuerdo, antes de terminar, que Intel realizó una apuesta muy ambiciosa con el proceso de 10 nm, tanto que ha acabado siendo demasiado complicada incluso para el gigante del chip: multiplicar por 2,7 la densidad de transistores frente al proceso de 14 nm. Sí, es simplemente impresionante, y si tenemos en cuenta que lo están afrontando sin haber dado el salto a la litografía ultravioleta extrema podemos entender mejor lo complicado que ha sido el camino de Intel hacia los 10 nm.